CH4 산화촉매, 가스정제촉매 (CO 및 H2 제거촉매, Ni계 촉매, Deoxo 촉매)를 소개하는 영상을 제작했다. 촉매 소개 Catalyst introduction
2023년 12월 21일
by 이진구
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2023년 12월 21일
by 이진구
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CH4 산화촉매, 가스정제촉매 (CO 및 H2 제거촉매, Ni계 촉매, Deoxo 촉매)를 소개하는 영상을 제작했다. 촉매 소개 Catalyst introduction
2023년 5월 22일
by 이진구
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교토 의정서 및 UNFCC (UN Framework Convention on Climate Change)에서 보고된 100년 지구온난화지수 (GWP)는 아래와 같다. 우수한 온실가스 저감 기술을 도입하여 지구 온난화를 막아야겠다. 온실가스 지구온난화지수 메탄 (CH4) 28 아산화질소 (N2O) 298 사불화탄소 (CF4) 7,390 육불화황 (SF6) 22,800 1956~76년 평균 대비 … Continue reading
2017년 11월 11일
by 이진구
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반도체팹에서 발생하는 유독가스를 제거하는 스크러버를 제작하고 있다. 다양한 종류의 유독가스를 제거하는 촉매 및 흡착제를 생산하여 설치하고 있다.
2013년 7월 31일
by 이진구
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PFCs (과불화화합물, perfluorocompounds. CF4, NF3, SF6 등)를 제거하는 촉매와 반응제를 개발하였다. 수증기를 분사하여 PFCs를 가수분해방식으로 제거하는 촉매방식은 수명이 1년 이상으로 길어서 고농도 PFCs를 장기간 제거하는 용도로 적합하다. 다만, 촉매 후단으로 HF, SO2, SO2F2가 배출되기 때문에 이를 제거하는 습식스크러버가 필요하다. SF6 … Continue reading